經(jīng)過啥辦法看出在拋光時的速度和移轉(zhuǎn)是不是調(diào)和恰當(dāng)？平面拋光后的拋光運動軌跡通常都是比較簡單，它是由翻滾與直線或者是曲線運動構(gòu)成的一種復(fù)合運動。等離子拋光設(shè)備中在被拋光工件的曲面上所留下的軌跡通常都是為相互交織的四環(huán)螺旋線。 等離子拋光設(shè)備在曲面拋光工作的時分種類比較多，多見的有外圓表面、內(nèi)孔表面、內(nèi)螺紋表面、表里被面、球面及曲線表面等，曲面拋光運動通常都是選用敷砂拋光法，當(dāng)拋光速度和移轉(zhuǎn)調(diào)和恰當(dāng)?shù)臅r分，所拋光出的條紋與回轉(zhuǎn)軸線成45度交叉，而當(dāng)拋光速度太快而支配出現(xiàn)移動太慢或者是相反的時分，所拋光出來條紋的交叉角度則就會出現(xiàn)大于或小于的狀況。
　　等離子拋光設(shè)備在曲面拋光加工的過程中，拋光盤與工件之間的運動有點、線、面接觸三種狀況。例如，用平板研具研拋球面時即為點的接觸；而用平板研具研拋外因及外圓錐表面即為線接觸；用膿開式研具拋光盤拋光拋光外圓及內(nèi)孔等表面則為面接觸。當(dāng)拋光表面面時，通常最為常用的是選用工件翻滾，拋光盤施力支配移動并稍向前后圓弧搖晃；而在拋光內(nèi)曲面時，正雄拋光通常選用的是拋光盤研具翻滾，工件施力支配移動并稍向前后圓弧搖晃。上述的這兩種拋光運動都是歸于手工與機械拋光機協(xié)作的拋光運動方法。